Industri mikroelektronik dan industri cip adalah asas industri pembuatan elektronik, adalah bidang persaingan pembuatan yang sangat canggih.Dalam industri mikroelektronik dan cip, photoresist adalah salah satu bahan utama, dan photoresist ialah sebatian organik.Terutama dalam beberapa tahun kebelakangan ini, pembangunan litar bersepadu berskala besar dan ultra besar telah menggalakkan penyelidikan, pembangunan dan penggunaan photoresists.
Pada masa ini, photoresists digunakan secara meluas dalam litar bersepadu (IC), pembungkusan CPU, sistem mikroelektromekanikal (MEMS), peranti fotonik (Optoelektronik/Fotonik), paparan kristal cecair (LED, LCD, OLED), panel fotovoltaik suria (PV Solar) dan bidang lain, permintaan pasaran adalah luas.Pengeluaran fotoresist awal terutamanya menggunakan bahan fotosensitif yang mengandungi perak, tetapi penggunaannya dihadkan dengan penekanan masyarakat antarabangsa terhadap perlindungan alam sekitar.Oleh itu, pembangunan dan penggunaan bahan fotosensitizer bio-fotoreaktif telah menjadi arus perdana pembangunan teknologi fotoresist.Dalam dekad yang lalu, bahan fotosensitif mesra alam baru berdasarkan sumber biologi ciri Cina asid tannic pentaerythritol telah dibangunkan dan digunakan dengan pantas di Amerika Syarikat dan Jepun, dan sejumlah besar asid gallic dan asid gallic pyrogenic telah diimport dari China dan diproses menjadi PAC fotosensitif.
Penyelidikan dan pembangunan untuk menyediakan polihidroksibenzofenon gred elektronik ketulenan tinggi daripada asid gallik pirogenik adalah bahan industri penting untuk fotoresist, perubatan, penyerap UV, penstabil resin, pewarna dan bidang lain dalam industri mikroelektronik.Dalam industri mikroelektronik yang berkembang pesat hari ini, 3HBP dan 4HBP digunakan terutamanya sebagai fotoinisiator penangkap hidrogen tipikal untuk fotoresist UV positif, yang sama pentingnya dengan pembuatan mikroelektronik seperti api untuk membawa cahaya kepada manusia.
Masa siaran: Nov-18-2022
